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Parylene供应服务放心可靠

派瑞林裂解仪的技术参数 想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。1.加热方式 ：居里点式高频诱导加热 2.样品管 ：石英管、内径4.5mm （热裂解室） 3.保温炉 ：室温至 200摄氏度 4.热裂解时间 ：1秒~99秒 5.保温传输管 ：室温至300摄氏度 管长0.7m 6.高周波功率 ：48 W 7.流路切换 ：电磁阀 8.尺寸(mm)?重量 ：305(W)×190(H)×465(D)mm?18Kg 9.电源 ：AC100V?7A 10.兼容GC ：所有GC（特殊型号除外） 11.可选居里点热箔片裂解温度：1040、920、764、740、

2024-01-20 16:05:27

300A型电弧炉定做服务放心可靠

电弧炉介绍 沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售电弧炉，我们为您分析该产品的以下信息。通过金属电极或非金属电极产生电弧加热的工业炉叫做电弧炉。电弧炉按电弧形式可分为三相电弧炉、自耗电弧炉、单相电弧炉和电阻电弧炉等类型。电弧炼钢炉的炉体由炉盖、炉门、出钢槽和炉身组成，炉底和炉壁用碱性耐火材料或酸性耐火材料砌筑。电弧炼钢炉按每吨炉容量所配变压器容量的多少分为普通功率电弧炉、高功率电弧炉和超高功率电弧炉。技术指标：立式圆筒型真空室，尺寸φ120mmX200mm真空系统配置:机械泵、分子泵极限压力(Pa):电弧熔炼室≤6。电弧炉炼钢是通过石墨电极向电弧炼钢炉内输入电能，以电极端部和炉料之间发

2024-01-19 18:50:43

激光脉冲沉积设备报价优选企业「在线咨询」

脉冲激光沉积简介 随着现代科学和技术的发展，薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一，是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不仅具有丰富的物理内涵，而且在微电子、光电子、超导材料等领域具有十分广泛的应用。长期以来，人们发明了多种制膜技术和方法：真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属有机化学气相沉积、溶胶- 凝胶法等。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。上述方法各有特点，并在一些领域得到应用。但由于其各有局限性，仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展，特别是高功率

2024-01-18 11:39:10

电弧炉甩带机定做常用解决方案

真空甩带熔炼机的维护保养规程 冷却水压力达到0.16-0.20MPa。真空度要求：以经常使用的需求真空度为准！甩带坩埚、护套、石墨环是否损坏，破损。铜辊表面无浅痕或划伤。机械泵、分子泵油位油量达到油标线。甩带电机开机后各传动部位无异常。各联接、紧固、接地、接零装置安全可靠。沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年甩带机行业经验，专注甩带机研发定制与生产，先进的甩带机生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话！！！什么是甩带炉？ 甩带炉也叫真空速凝炉，主要用于各种稀土永磁材料的熔炼, 合金的冶炼。是一种集真空熔炼、自动倾铸、冷凝器、机电于一体的大型精密设备

2024-01-16 14:16:50

磁控溅射仪公司行业专家在线为您服务「多图」

线列式磁控生产线 沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。采用先进的in-line产线结构，Twin-Mag孪生阴极磁控溅射技术，并配以全自动控制系统、先进的真空系统，可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜，并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构，适合大规模光学、电学薄膜的生产，做到一机多用具有高能效、高可靠性、低成本的优势。线列式磁控生产线沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。本产品可广泛应用于触摸屏ITO镀膜、LCD显示屏ITO

2024-01-15 10:40:36

单室有机无机热蒸发镀膜机公司优选企业

OLED有机无机联合蒸发系统介绍 以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产电阻热蒸发镀膜产品，欢迎新老客户莅临。OLED有机无机联合蒸发系统的用途 ： 适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。技术指标：极限真空≤610-4Pa，工作压力≤2*10-3Pa。与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机

2024-01-08 12:09:28

激光脉冲沉积装置公司信赖推荐

PLD450型脉冲激光镀膜介绍 沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。主要用途： 用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。 系统组成: 主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。 脉冲激光沉积系统特点及优势 可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供专业的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，

2024-01-07 10:18:36

上海电子束蒸发镀膜设备价格欢迎来电

电子束镀膜有哪些特点？ 以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。★ 完全封闭的系统框架设计，外观更漂亮，使用更安全；是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品； ★ 前开门真空腔体，方便取放基片、添加蒸发材料以及真空室的日常维护； ★ 可定制一体化高的精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～25rpm连续可调；平板基底衬底可选择加热或水冷； ★ 更优的薄膜均匀性和重复性，采用进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚； ★ 可沉积金属（Au, Ag, Al, Ti, Pt, Mo, Fe, Cr, Ni等）、化合物（ITO等）及有机物材料（进口电子枪）。电子

2023-12-29 18:08:00

脉冲激光沉积装置报价优惠报价 沈阳鹏程有限公司

脉冲激光沉积的优点 想了解更多关于脉冲激光沉积的相关资讯，请持续关注本公司。1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

2023-12-23 10:03:12

800型多靶磁控溅射仪公司品牌企业,沈阳鹏程真空技术公司

双室磁控溅射系统 想了解更多关于磁控溅射产品的相关资讯，请持续关注本公司。设备简介 主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低；该系列设备主要部件采用进口或者国内Zui优的配置，从而提高设备的稳定性；另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。目前该系列有基本型、旗舰型、豪华型、尊享型4种不同配置可供选择，可以根据客户的不同需求进行配置，比较灵活；标配4只Φ2英寸永磁靶，4台500W直流溅射电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜

2023-12-20 19:29:11